鋼研納克Plasma 1500ICP光譜儀
- 公司名稱 鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司
- 品牌 鋼研納克/NCS
- 型號
- 產(chǎn)地 江蘇省蘇州市昆山市前進東路158號
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/10/24 17:17:55
- 訪問次數(shù) 5525
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價格區(qū)間 | 20萬-50萬 | 儀器種類 | 順序掃描 |
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應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,農(nóng)業(yè),石油,地礦 |
單道掃描ICP光譜儀Plasma1500可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
Plasma 1500可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
1、 大面積高刻線密度平面全息光柵,Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學系統(tǒng),通光量大,分辨率高。
2、 可選配雙光柵,整個波長分布范圍內(nèi)均具有高光譜分辨率。
3、 高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
4、 功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。
穩(wěn)健高效的全固態(tài)光源
全固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小、效率高,全自動負載匹配,速度快、精度高,全固態(tài)光源能適應各種復雜基體樣品及揮發(fā)性有機溶劑的測試,具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
垂直炬管的設(shè)計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。
簡潔的炬管安裝定位設(shè)計,快速定位,精確的位置重現(xiàn)。
具有低功率待機模式,待機時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行,節(jié)約使用成本。
實時監(jiān)控儀器運行參數(shù),高性能以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊高效可靠。
精密的光學系統(tǒng)
Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學設(shè)計,使用大面積高刻線密度平面全息光柵,光路傳輸效率高,譜線質(zhì)量*。
精密的波長驅(qū)動技術(shù),1m光學系統(tǒng)焦距設(shè)計,具有優(yōu)異的波長定位精度。
雙光柵設(shè)計,整個波長分布范圍內(nèi)均具有*光譜分辨率,國產(chǎn)新設(shè)計。
搭載光學濾波器系統(tǒng),根據(jù)波長自動切換,有效去除光譜干擾和降低光學噪聲。
光室氣體氛圍保持、多點充氣技術(shù),縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機即可測量。
光室氣路獨立,可充氮氣或氬氣。
立體控溫系統(tǒng),保障光學系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。
進樣系統(tǒng)
儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進樣系統(tǒng),可用于高鹽/復雜基體樣品等樣品的測試。
使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護,轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。
使用高精密流量閥或質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長期穩(wěn)定。
4通道12滾輪蠕動泵,泵速連續(xù)可調(diào),確保樣品導入穩(wěn)定性。
檢測器
高靈敏度PMT檢測器,全譜段響應,具有極寬的動態(tài)范圍和極低的信號噪聲。
選配紫外波段PMT檢測器,使得紫外波段譜線檢測能力得到極大提高。
寬動態(tài)范圍信號處理技術(shù),提高樣品檢測能力,獲得更為快速、準確的分析結(jié)果。
軟件系統(tǒng)
人性化的界面設(shè)計,流暢易懂,簡便易用,針對分析應用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無須復雜的方法開發(fā),即可快速開展分析操作,簡單易用。
軟件譜線庫具有7萬多條譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。
軟件支持標準曲線法、標準加入法等分析方法,具有扣除空白、內(nèi)標校正、干擾校正等多種數(shù)據(jù)處理方法。輕松的測試方式設(shè)置,直觀的測試結(jié)果顯示,具有多種報表輸出格式。
Plasma1500采用高效穩(wěn)定的全固態(tài)射頻發(fā)生器,摒棄低效率的電子管時代,匹配速度快,確保儀器長期高精度運行。
單道掃描ICP光譜儀Plasma1500技術(shù)參數(shù):
輸出功率:700W-1600W連續(xù)1W可調(diào)
功率穩(wěn)定性:≤0.1%
頻率穩(wěn)定性:≤0.01%
匹配方式:自動匹配
電磁場泄露輻射強度:<0.5V/m
進樣系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):
炬管方向:垂直放置
炬管:一體式炬管,中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm(石英或陶瓷)
霧化器:同心霧化器或平行通道霧化器,外徑6mm,可選標準霧化器、高鹽霧化器、氫氟霧化器。
霧室:旋流霧化室,可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。
蠕動泵:4通道12滾輪,轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)
光學系統(tǒng)參數(shù):
光柵刻線(選配):
2400g/mm
3600g/mm
4320g/mm
雙光柵(4320g/mm+2400g/mm)
分析譜線范圍:
165nm-800nm2400g/mm
165nm-550nm3600g/mm
165nm-450nm4320g/mm
焦距:1000mm
光室恒溫:高精度恒溫35℃±0.1℃
分辨率:
≤0.012nm2400g/mm
≤0.008nm3600g/mm
≤0.006nm4320g/mm
檢測器技術(shù)參數(shù):
檢測器:高靈敏度PMT檢測器
分析性能:
觀測方式:垂直火炬
檢出限:亞ppb-ppb
短期穩(wěn)定性:RSD≤0.75%(500LOD)
長期穩(wěn)定性:RSD≤1.25%(500LOD)
儀器規(guī)格
尺寸:寬x深x高(159cmx65cmx75cm)
重量:約200kg
工作環(huán)境
實驗室濕度環(huán)境:相對濕度20%~80%
氬氣純度:不小于99.95%
排風:不小于400立方米/小時
電源:200V~240VAC單相;50Hz~60Hz;4kVA