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FPSEM-STE-MS150 高壓濺射PVD物理氣相沉積系統(tǒng)
參考價(jià) | ¥550000-¥1200000/件 |
- 公司名稱 孚光精儀(中國(guó))有限公司
- 品牌孚光精儀
- 型號(hào)FPSEM-STE-MS150
- 所在地上海市
- 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間2024/12/16 11:52:06
- 訪問(wèn)次數(shù) 955
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 80萬(wàn)-100萬(wàn) |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,航天 | 1 | 2 |
這款高壓PVD系統(tǒng)配置適合在晶圓濺射金屬膜,磁性材料,多組分氧化物,得益于它靈活的配置和特殊的晶圓加熱器設(shè)計(jì),PVD可以在溫度最高900℃的襯底上濺射金屬膜層和磁性材料,最大容納晶圓直徑為150mm,訂制后最大可容納200mm直徑晶圓。
高壓PVD系統(tǒng)特點(diǎn)
•最多3個(gè)磁控管源,靶材為∅76,2 mm
•過(guò)程氣體:Ar、H2、O2、N2
•磁控管源位于柔性支架上,可聚焦到單點(diǎn)(共焦幾何結(jié)構(gòu)),以提供共沉積模式
•每個(gè)磁控管源的主快門或單獨(dú)快門(可選)
•可能安裝電子束源和/或熱阻蒸發(fā)器以及用于基板清潔的離子源(可選)
•多功能真空沉積系統(tǒng),可配備各種PVD源和高溫晶圓加熱
•用2-3個(gè)磁控管沉積多組分薄膜
•從2-3個(gè)磁控管源同時(shí)濺射相同的目標(biāo)材料,以在∅100-150 mm基板上提供最大的均勻性
•可能升級(jí)多達(dá)7個(gè)磁控管源,以便使用旋轉(zhuǎn)式晶圓安裝逐個(gè)沉積材料
高壓PVD系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
工藝過(guò)程反應(yīng)器中的極限壓力: 不小于<1×10-7(<1×10-8 in UHV version)
達(dá)到預(yù)處理真空的時(shí)間(<5×10^-6Torr)在TMP 550 l/sand,干渦旋泵35m3/h時(shí): 不超過(guò)2min
沉積過(guò)程中晶圓旋轉(zhuǎn)的速度范圍: 0~20rpm
晶圓加熱溫度: 最高900°С
泵送系統(tǒng)性能:–渦輪分子泵,不小于500l/s
–干式渦旋泵,不小于35m3/h
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