化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>電子束刻蝕系統(tǒng)>ELS-F125/F100/HS50 電子束曝光系統(tǒng)
ELS-F125/F100/HS50 電子束曝光系統(tǒng)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 上海納騰儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) ELS-F125/F100/HS50
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/6/17 18:01:53
- 訪問次數(shù) 2196
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子,電氣,綜合 |
電子束曝光系統(tǒng)ELS-F125具有以下優(yōu)點(diǎn)：
l 超高書寫精度
- 5 nm 線寬精度 @125 kV
- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應(yīng)小化 @125 kV
l 大通量、均勻性好
- 寬視野書寫:500um視場(chǎng)下10 nm線寬
- 高束流下電子束直徑依然很小，大通量而不影響分辨率，2 nm電子束直徑@1 nA
l 界面用戶友好
基于Windows系統(tǒng)的CAD和SEM界面:
-簡(jiǎn)單易用的圖案設(shè)計(jì)功能
-易于控制的電子束條件
二、電子束曝光系統(tǒng)主要功能：
l 主要應(yīng)用
納米器件的微結(jié)構(gòu)
集成光學(xué)器件，如光柵，光子晶體等
NEMS結(jié)構(gòu)，復(fù)雜精細(xì)結(jié)構(gòu)
光刻掩模板，壓印模板
l 技術(shù)能力
三、應(yīng)用：
采購(gòu)中心
化工儀器網(wǎng)