賽默飛EscaLabXi+ X射線(xiàn)光電子能譜儀特點(diǎn)：

高靈敏度能譜

小面積 XPS

深度剖析能力

角分辨 XPS

標(biāo)配離子散射能譜 (ISS)功能

標(biāo)配反射電子能量損失譜 (REELS)功能

標(biāo)配“樣品預(yù)處理"室

多技術(shù)分析的多功能性

多個(gè)樣品制備技術(shù)可選

全自動(dòng)無(wú)人值守式分析

多樣品分析

單色化X射線(xiàn)源

雙晶體微聚焦單色器配備一個(gè) 500 mm 直徑的羅蘭圓，使用鋁陽(yáng)極靶

樣品 X 射線(xiàn)光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm

透鏡、分析儀和檢測(cè)器

透鏡、分析儀和檢測(cè)器構(gòu)成XPS檢測(cè)系統(tǒng)+XPS光譜儀在成像和微區(qū)方面的分析能力都是單一的

兩種類(lèi)型的檢測(cè)器可以確保為每種分析提供最佳檢測(cè)——用于成像的二維檢測(cè)器和適用于高計(jì)數(shù)率檢測(cè)的電子倍增器

透鏡配備了兩個(gè)電腦控制的虹膜機(jī)構(gòu) - 一個(gè)允許用戶(hù)將透鏡的視野控制在<20μm以下進(jìn)行微區(qū)分析，另一個(gè)控制透鏡的接收角度，以便獲得高質(zhì)量角度分辨數(shù)據(jù)

180° 半球型能量分析器

深度剖析

數(shù)控式 EX06 離子槍是一款高性能的離子源，哪怕在使用低能離子源時(shí)也有著很好的性能

提供方位角樣品旋轉(zhuǎn)

多技術(shù)能力

可配備其他分析技術(shù)而不降低 XPS 檢測(cè)性能

使用 EX06 離子槍時(shí)透鏡組和能量分析儀的電源可反向（確保離子散射能譜 (ISS) 可用）

電子槍可加壓升至 1000 V，為 REELS 提供優(yōu)異的離子源

技術(shù)選項(xiàng)

非單色化 X 射線(xiàn)光源的XPS分析

AES（俄歇電子能譜）

UPS（紫外光電子能譜）

賽默飛EscaLabXi+ X射線(xiàn)光電子能譜儀真空系統(tǒng)

5 mm 厚高導(dǎo)磁?金屬分析室，提高磁屏蔽效率

與使用內(nèi)部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳

樣品制備

系統(tǒng)標(biāo)配一體化的快速進(jìn)樣室和制備室

額外的制備室可選

Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)

集成了測(cè)試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成

允許遠(yuǎn)程控制，并且可輕松與第三方軟件交互（例如 Microsoft Word）

管理從樣品載入到報(bào)告導(dǎo)出的整個(gè)分析過(guò)程