Nanofilm_EP4 橢偏儀
- 公司名稱(chēng) 深圳市錫成科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Nanofilm_EP4
- 產(chǎn)地 德國(guó)
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/8/7 14:47:21
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 336
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臺(tái)階儀，光學(xué)輪廓儀，電化學(xué)工作站，納米壓痕儀，力電聯(lián)測(cè)材料試驗(yàn)機(jī)，介電溫譜測(cè)量系統(tǒng)，電阻測(cè)試儀，原子力顯微鏡，光學(xué)顯微鏡
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
|---|
橢偏儀
超薄膜的實(shí)時(shí)可視化分析測(cè)試，實(shí)時(shí)觀(guān)察樣品微觀(guān)尺度上的結(jié)構(gòu)?？梢詼y(cè)量諸如薄膜厚度、折射率和吸收系數(shù)等參數(shù)。也可以對(duì)薄膜進(jìn)行區(qū)域化(選區(qū))分析，獲得所選區(qū)域的成像分析圖。
橢偏儀產(chǎn)品特點(diǎn)
a 自動(dòng)消光型橢偏分析技術(shù)和傳統(tǒng)的顯微鏡技術(shù)結(jié)合，可視化實(shí)時(shí)圖像橢偏分析，橫向(X/Y方向)分辨率優(yōu)于1μm。
a 實(shí)時(shí)橢偏對(duì)比度圖像，實(shí)時(shí)視頻圖像分析。樣品的所有微結(jié)構(gòu)、缺陷、污染和動(dòng)態(tài)變化過(guò)程都將一覽無(wú)余。
a 全畫(huà)幅聚焦技術(shù)解決了斜角入射導(dǎo)致的全畫(huà)幅聚焦問(wèn)題，適用于動(dòng)態(tài)原位分析測(cè)試，如自組裝單分子層的生長(zhǎng)和移動(dòng)、蛋白質(zhì)相互作用和水面單分子層的漂移等。
a 光斑切割技術(shù)，真正實(shí)現(xiàn)超薄透明基底上薄膜的無(wú)背底反射橢偏測(cè)試。
基礎(chǔ)參數(shù) | |
樣品對(duì)準(zhǔn) | 探測(cè)Z方向的位置和傾斜，傾轉(zhuǎn)軸探測(cè)精度：0.001°，Z向精度：1μm |
儀器對(duì)準(zhǔn) | 光學(xué)系統(tǒng)角度傾轉(zhuǎn)調(diào)整，獨(dú)立于樣品位置，傾轉(zhuǎn)軸探測(cè)精度：0.001° |
Z軸升降系統(tǒng) | 行程范圍：>100mm，可重復(fù)性：lμm |
光源 | 低氙弧燈激光光源，噪聲低至0.1%，長(zhǎng)壽命10000小時(shí)； 可選單波長(zhǎng)激光光源或200-2000nm連續(xù)波長(zhǎng)光源； 提供250-1700nm光柵單色器，中段波長(zhǎng)精度＜1nm，帶寬5/6/12nm； 可選光斑切割照明模塊，實(shí)現(xiàn)透明基底薄膜的無(wú)背底反射干擾測(cè)量； |
光學(xué)成像系統(tǒng) | 聚焦掃描系統(tǒng)，在變角度測(cè)量時(shí)(<80°)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)圖像，兼容所有物鏡，橫向分辨率＜1μm； 全畫(huà)幅聚焦圖像/實(shí)時(shí)視頻，橫向分辨率2μm，工作入射角：52°~57°； |
探測(cè)器 | 單色千兆網(wǎng)(GigE)CCD相機(jī)，波長(zhǎng)：360nm-1000nm，1392×1040 px，12位，40幀/秒； 可選近紅外(NIR)探測(cè)相機(jī)和紫外線(xiàn)(UV)探測(cè)相機(jī)； 可選多相機(jī)匹配及切換系統(tǒng)； |
物鏡 | 2×-50×物鏡； UV/IR物鏡； |
自動(dòng)轉(zhuǎn)角儀 | 入射角范圍：38°-90°，分辨率：0.001°，角精度：0.01°，轉(zhuǎn)動(dòng)速度：-5°/秒 |
Z軸自動(dòng)升降系統(tǒng) | 行程：12cm，可重復(fù)性：1μm，分辨率0.5μm |
拓展附件 | 表面等離子共振（SPR）單元，固/液界面分析單元，光導(dǎo)液/液界面分析單元，微流控分析單元，溫度控制單元，電化學(xué)分析單元等 |
聯(lián)用技術(shù) | AFM、石英晶體微天平、反射光譜儀、拉曼光譜儀、白光干涉儀等 |
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