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FPSEM-STE-MS900磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng)PX 4176
KVT電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)PX 2834
EC400熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 5137
EB700高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1900
FL-800N物理氣相沉積設(shè)備(PVD)冷水機-冷卻系統(tǒng)PX 6764
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2834
MS450磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 5137
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 5137
EC400蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 5137
MS450實驗室真空鍍膜設(shè)備PX 5137
MS450實驗室鍍膜機PX 5137
EC400蒸發(fā)鍍膜機PX 5137
MS450多功能鍍膜設(shè)備PX 5137
MS450鈣鈦礦鍍膜設(shè)備PX 5137
MS450科研鍍膜機PX 5137
MS450小型鍍膜設(shè)備PX 5137
MS450真空鍍膜設(shè)備PX 5137
MS450小型真空鍍膜機PX 5137
MS450鍍膜設(shè)備PX 5137
EC400有機-金屬真空熱蒸鍍儀PX 5137
PRO Line PVD 200多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺PX 1900
CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 1900
LAB Line磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 1900
NANO 36™濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1900
Mini SPECTROS沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1900
SPECTROS™ 150有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1900
Super-SPECTROS™ 200有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1900
EB900高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1900
NEXUS IBD-LDD離子束沉積設(shè)備PX 1900
PVD-BATCH DRUM薄膜沉積PVD設(shè)備PX 1900
COVAP科瓦普物理氣相沉積平臺PX 1900
NEXDEPAE物理氣相沉積平臺PX 1900
Amod物理氣相沉積平臺PX 1900
埃沃維克EvoVac 物理氣相沉積平臺PX 1900
eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1900
EC400高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 1900
Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1900
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 1900
Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1900
DZ450高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1900
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
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磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng)
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薄膜沉積PVD設(shè)備
有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
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濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
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