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FPSUR-PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)工作站PX 4176
FPGEOL-PFG-03C-filmroll全色激光全息膜卷PX 2810
PLUTO-MC真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備PX 2200
uGmni-200/300日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體濺射設(shè)備單晶圓復(fù)合PX 3917
CVTD 材料氣相輸運與沉積系統(tǒng)PX 1660
ACU20FDH-LH沉積設(shè)備用高溫分體氣體流量控制器及流量計PX 3724
AL-1無針孔薄膜沉積設(shè)備PX 1900
FPKOR-HEX-PVD臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)PX 2810
FPCTE-Play-ALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)PX 4176
FPANR-AT410ALD系統(tǒng),原子層沉積設(shè)備PX 4176
FPANG-COVAPCOVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng)PX 4176
FPANG-AMOD物理氣相沉積平臺PVD,濺射,電子束蒸發(fā)PX 4176
FPTOR-IBD離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜PX 4176
SV-200 SV-4540 SV-6040日本ULVAC愛發(fā)科大型設(shè)備濺射SV-9045PX 3917
NEXUS IBD離子束沉積設(shè)備PX 1900
OCTOS™自動薄膜沉積簇工具PX 1900
ESC-101新型離子槍PX 1900
KaLine 8V部件鍍膜設(shè)備PX 1900
For Half Mirror Coating部件鍍膜設(shè)備PX 1900
HVD-1800 Series部件鍍膜設(shè)備PX 1900
SMART蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1900
Lumina AS/P金屬有機物化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1900
Roll to Roll Sputtering卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)PX 1900
Propel HVM GaN金屬有機化學(xué)氣相沉積PX 1900
KaRoll RTR1C卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)PX 1900
MEB-600/800熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機設(shè)備PX 0
MSP-300/400/5100/6200磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
全色激光全息膜卷
脈沖激光沉積系統(tǒng)工作站
臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體濺射設(shè)備單晶圓復(fù)合
日本ULVAC愛發(fā)科大型設(shè)備濺射SV-9045
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)
部件鍍膜設(shè)備
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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