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FPTOR-RIE600W反應(yīng)離子刻蝕機(jī)系統(tǒng)PX 4176
WINETCHCCP等離子刻蝕機(jī)PX 2200
Plasmalab 133牛津儀器 RIE 半導(dǎo)體刻蝕機(jī)PX 3891
SPB5/plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PX 4148
森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200PX 1676
Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 80PX 2976
PLASMA大氣常壓等離子處理機(jī)器PX 1954
RIE-300NRRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機(jī)PX 3037
PICO德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)PX 3258
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠(yuǎn)程等離子源PX 2076
VP-RS15等離子刻蝕機(jī)PX 2680
離子污染測(cè)定儀PX 2130
FPTOR-ICPRIE-ICP-RIE感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)PX 4176
ICP等離子刻蝕機(jī)PX 2200
FPSEM-icp200e-ICPVCD電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 4176
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500PX 1676
Wintech ICP-200微蕓電感耦合等離子體刻蝕機(jī)PX 0
Wintech CCP-200微蕓電容耦合等離子體刻蝕機(jī)PX 0
customized-12反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1900
RIE-200CRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1900
Ionfab 300 IBE離子束刻蝕系統(tǒng)IBEPX 1900
customized-14深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCHPX 1900
RIE-800iP等離子體刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE-10NRRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE-230iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE-400iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1900
RIE-800iPC等離子體刻蝕設(shè)備PX 1900
NE-5700/NE-7800刻蝕設(shè)備PX 1900
ULHITETM NE-7800H高密度等離子刻蝕裝置PX 1900
NLD-570NLD干法刻蝕設(shè)備PX 1900
APIOS NE-950EX干法刻蝕設(shè)備PX 1900
NLD-5700干法刻蝕裝置PX 1900
EIS-200ERP離子束刻蝕機(jī)PX 1900
EIS-1500離子束刻蝕機(jī)PX 1900
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)PX 1900
PlasmaPro 100 Cobra ICP電感耦合等離子體刻蝕PX 1900
KS-S300-E單片濕法刻蝕機(jī)PX 1900
customized多腔等離子體工藝系統(tǒng)PX 1900
customized多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)PX 1900
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
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干法工藝設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500
等離子刻蝕集群系統(tǒng)
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
等離子刻蝕系統(tǒng)RIE
RIE等離子蝕刻系統(tǒng)
低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)
單晶圓刻蝕系統(tǒng)
大氣常壓等離子處理機(jī)器
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
等離子刻蝕機(jī)
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